隨著功率電子與半導體設備持續發展,资料的散熱效能與電氣絕緣机能日益沉要。
氮化鋁(AlN)陶瓷基板兼具高導熱率、优良電氣絕緣性及與矽相近的熱膨脹係數。相較於傳統氧化鋁陶瓷,AlN 擁有更優異的導熱能力,有助於提升散熱效能並降低熱應力。
AlN 陶瓷基板廣泛應用於功率半導體、功率模組及半導體製造設備,是高效力電子產品熱治理的沉要资料。
NEXTECK 持續關注先進陶瓷资料的發展,為半導體與電子產業提供资料應用增援。

隨著功率電子與半導體設備持續發展,资料的散熱效能與電氣絕緣机能日益沉要。
氮化鋁(AlN)陶瓷基板兼具高導熱率、优良電氣絕緣性及與矽相近的熱膨脹係數。相較於傳統氧化鋁陶瓷,AlN 擁有更優異的導熱能力,有助於提升散熱效能並降低熱應力。
AlN 陶瓷基板廣泛應用於功率半導體、功率模組及半導體製造設備,是高效力電子產品熱治理的沉要资料。
NEXTECK 持續關注先進陶瓷资料的發展,為半導體與電子產業提供资料應用增援。
